Plataforma d'espectroscòpia de fotoemissió (XPS&UPS)
La instal·lació de fotoemissió de l'ICN2 allotja un sistema XPS i UPS d'última generació que permet la caracterització superficial, química i electrònica d'una àmplia gamma de materials. La instal·lació ofereix serveis als clients tant interns com externs d'ICN2.
XPS i UPS són tècniques sensibles a la superfície perquè els electrons viatjaran només uns quants nanòmetres en el sòlid abans per perdre energia per interacció inelàstica, el que significa que els electrons analitzats provenen de la superfície superior del material. És per això que, en espectroscòpia de fotoemissió, la mostra es col·loca en un buit ultra alt (UHV) per protegir la superfície de la contaminació i permetre que els electrons emesos dels sòlids arribin a l'analitzador. XPS, a causa de l'energia més alta de la font de raigs X, dóna accés al nivell del nucli permetent la determinació de l'estructura química dels materials ja que els nivells del nucli tenen un petit desplaçament químic en funció de l'entorn químic de l'àtom que està ionitzat. XPS també permet quantificar els elements presents en el material . El SAI, a causa de la menor energia de la llum UV, dóna accés als electrons de les bandes de valència i permet, amb SAI de resolució angular (ARUPS), observar la distribució dels electrons en l'espai recíproc dels sòlids.
Serveis
COMPATIBLE AMB MOSTRES
Les mostres mesurades a les instal·lacions de fotoemissió ICN2 són principalment pols, fibres i pel·lícules. Les mostres líquides es poden dipositar sobre el substrat adequat abans de la introducció al sistema de buit.
La mida màxima permesa en el suport de mostres és de 10 mm X 10 mm.
Equipament
Les espectroscòpies de fotoemissió (XPS-UPS) són un conjunt de tècniques que permeten determinar la configuració electrònica dels materials mitjançant l’anàlisi de l’energia cinètica dels electrons expulsats del material (per efecte fotoelèctric) sota irradiació amb raigs X (XPS) o llum UV ( UPS).
El sistema XPS-UPS a ICN2 consta de 3 cambres UHV (bloqueig de càrrega, preparació i anàlisi).
La cambra d’anàlisi està equipada amb un analitzador hemisfèric Phoibos 150 de SPECS amb un radi mitjà de 150 mm (resolució d’energia total de 2,9 meV), font de raigs X amb ànode dual (Al Ka 1486,74eV i Ag La 2984,3eV) i monocromador, manipulador de 4 eixos Escalfament de mostres fins a 1200K per ebeam i refredament de mostres per N2 (l), font UV i monocromador per a He I (21,2eV) i He II (40,8eV) i pistola d’inundació per a mostres aïllants.
La cambra de preparació està equipada amb manipulador de 4 eixos amb escalfament de mostres fins a 1200 K per ebeam, pistola de pulverització no enfocada que treballa amb Ar per a la neteja de mostres, LEED i diversos ports CF40 disponibles per instal·lar evaporadors o altres accessoris.
