Creixement de nanomaterials

La nostra unitat produeix pel·lícules mitjançant tècniques de deposició làser polsada i MOCVD i treballa en estreta col·laboració amb molts grups de recerca de l'ICN2, així com amb equips externs. Una configuració PLD de dos làser desenvolupada recentment permet la coablació de dos objectius per a la deposició de pel·lícules amb gradient de composició, així com nous materials de composició mixta. La nostra unitat realitza una caracterització estructural avançada de pel·lícules primes, principalment per difracció de raigs X, així com treballant en el desenvolupament de mètodes avançats per a la caracterització per difracció de raigs X de pel·lícules primes epitaxials. Aquests inclouen la difracció en el pla, l'anàlisi GIXRD, així com el mapeig espacial recíproc en 3D. Aquesta investigació de la microestructura es complementa amb la caracterització HRTEM. Estem especialment interessats en els fenòmens superficials i interfacials, com ara la cinètica d'intercanvi d'oxigen. Amb aquesta finalitat hem desenvolupat una tècnica XRD resolta en el temps que controla la subtil expansió química produïda en les pel·lícules primes d'òxid de metalls de transició quan es canvia la seva estequiometria d'oxigen. Pretenem realitzar caracterització in situ i in-operando per XRD en diferents dispositius electroquímics d'estat sòlid. Aquests estudis també s'han estès als estudis estructurals in situ de materials ferroelèctrics i de commutació resistiva, així com a materials fotostricitius. El 2019 també hem continuat treballant en el desenvolupament d'un procés MOCVD de pel·lícula fina per al creixement de dicalcogenurs de metalls de transició ultrafins d'alta qualitat, començant per MoS ₂ , en col·laboració amb el grup ICN2 liderat pel Prof. José A. Garrido .