Crecimiento de nanomateriales

Nuestra unidad produce películas mediante técnicas de deposición láser pulsada y MOCVD y trabaja en estrecha colaboración con muchos grupos de investigación del ICN2, así como con equipos externos. Una configuración PLD de dos láser recientemente desarrollada permite la coablación de dos objetivos para la deposición de películas con gradiente de composición, así como nuevos materiales de composición mixta. Nuestra unidad realiza una caracterización estructural avanzada de películas delgadas, principalmente por difracción de rayos X, así como trabajando en el desarrollo de métodos avanzados para la caracterización por difracción de rayos X de películas delgadas epitaxiales. Éstos incluyen la difracción en el plano, el análisis GIXRD, así como el mapeo espacial recíproco en 3D. Esta investigación de la microestructura se complementa con la caracterización HRTEM. Estamos especialmente interesados ​​en los fenómenos superficiales e interfaciales, tales como la cinética de intercambio de oxígeno. A tal fin hemos desarrollado una técnica XRD resuelta en el tiempo que controla la sutil expansión química producida en las películas delgadas de óxido de metales de transición cuando se cambia su estequiometría de oxígeno. Pretendemos realizar caracterización in situ e in-operando por XRD en distintos dispositivos electroquímicos de estado sólido. Estos estudios también se han extendido a los estudios estructurales in situ de materiales ferroeléctricos y de conmutación resistiva, así como materiales fotostricitivos. En 2019 también hemos continuado trabajando en el desarrollo de un proceso MOCVD de película fina para el crecimiento de dicalcogenuros de metales de transición ultrafinos de alta calidad, empezando por MoS 2 , en colaboración con el grupo ICN2 liderado por el Prof . José A. Garrido